恒(heng)奧(ao)德(de)儀器紫外臭氧(yang)清洗機(ji)工作(zuo)原理(li)以及(ji)應用(yong)

工(gong)作(zuo)原(yuan)理

VUV低(di)壓紫外汞燈(deng)能同(tong)時發射(she)波長254nm和185nm的紫外光，這(zhe)兩種波長(chang)的(de)光(guang)子(zi)能(neng)量(liang)可以直(zhi)接(jie)打(da)開(kai)和切(qie)斷(duan)有機物分子(zi)中的(de)共價鍵，使有機物分子(zi)活(huo)化，分解成離(li)子(zi)、遊(you)離(li)態(tai)原(yuan)子(zi)、受(shou)激(ji)分子(zi)等(deng)。與此同(tong)時(shi)，185nm波長紫外光的(de)光能(neng)量(liang)能(neng)將(jiang)空(kong)氣(qi)中的(de)氧(yang)氣（O2）分解成臭(chou)氧(yang)（O3）；而254nm波(bo)長的紫外光的(de)光能(neng)量(liang)能(neng)將(jiang)O3分解成O2和活(huo)性氧(yang)（O），這個光(guang)敏(min)氧(yang)化反(fan)應(ying)過(guo)程是(shi)連續(xu)進(jin)行(xing)的，在(zai)這(zhe)兩種短波(bo)紫外光的(de)照射(she)下，臭氧(yang)會不斷(duan)的(de)生(sheng)成和分解，活(huo)性氧(yang)原子(zi)就(jiu)會不斷(duan)的(de)生(sheng)成，而且(qie)越(yue)來越多，由(you)於活(huo)性氧(yang)原子(zi)（O）有強烈的氧(yang)化作用(yong)，與活(huo)化了的有機物（即(ji)碳氫(qing)化合物）分子(zi)發(fa)生(sheng)氧(yang)化反(fan)應(ying)，生(sheng)成揮(hui)發性(xing)氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸(yi)出物體表面，從(cong)而清(qing)除了粘附在(zai)物體表面上(shang)的有機汙染(ran)物。

應用(yong)

光(guang)清洗技術(shu)的應用範(fan)圍(wei)十分廣(guang)泛，在現代信息(xi)技術(shu)行(xing)業(ye)中使用(yong)光清洗(xi)技術(shu)比(bi)較(jiao)普(pu)遍(bian)，隨著(zhe)我(wo)國(guo)工業(ye)現(xian)代化的發(fa)展，光清洗(xi)和光改質技術(shu)還將逐步(bu)應用(yong)於金屬、塑(su)料、橡(xiang)膠(jiao)等(deng)工業(ye)生(sheng)產領域(yu)。

1、在LCD、OLED生產中，在(zai)塗(tu)光刻(ke)膠(jiao)、PI膠(jiao)、定向膜(mo)、鉻膜(mo)、色(se)膜(mo)前(qian)經過(guo)光(guang)清洗，可以極(ji)大(da)的提(ti)高(gao)基(ji)體表面潤(run)濕(shi)性，增(zeng)強基(ji)體表面的(de)粘合力；

2、印(yin)制(zhi)電路板生(sheng)產中，對銅底板，印(yin)刷(shua)底板進(jin)行(xing)光清(qing)洗(xi)和改質，在導(dao)線焊接(jie)前進(jin)行(xing)光清(qing)洗(xi)，可以提(ti)高(gao)熔焊(han)的(de)接(jie)觸面積(ji)，大(da)大(da)增(zeng)加連接(jie)強度(du)。特別(bie)是(shi)高(gao)精(jing)度(du)印(yin)制(zhi)電路板，當(dang)線距達(da)到(dao)亞(ya)微米(mi)級時，光(guang)清(qing)洗(xi)可輕易(yi)地(di)去(qu)除(chu)在線距之(zhi)間(jian)很(hen)小(xiao)的(de)微(wei)粒(li)，可以大(da)大(da)提(ti)高(gao)印(yin)制(zhi)電路板的(de)質(zhi)量。

3、大(da)規(gui)模(mo)集(ji)成電路的密(mi)度(du)越(yue)來(lai)越(yue)高(gao)，晶(jing)格(ge)的微(wei)細(xi)化越來(lai)越(yue)密，要求(qiu)表(biao)面的(de)潔凈度(du)越(yue)來(lai)越(yue)高(gao)，光(guang)清洗可以有效地(di)實現(xian)表面的(de)原子(zi)清(qing)潔度(du)，而且(qie)對芯(xin)片表(biao)面不(bu)會造(zao)成損(sun)傷。

4、在(zai)半(ban)導體生產中，矽(gui)晶(jing)片(pian)塗(tu)保(bao)護膜、鋁蒸(zheng)發膜(mo)前進(jin)行(xing)光清(qing)洗(xi)，可以提(ti)高(gao)粘合力，防止(zhi)針孔、裂(lie)縫的(de)發(fa)生。

5、在光盤的生(sheng)產中，沈(chen)積(ji)各(ge)種膜前(qian)作(zuo)光(guang)清(qing)洗(xi)準(zhun)備，可以提(ti)高(gao)光(guang)盤的質(zhi)量。

6、磁(ci)頭固(gu)定面的(de)粘合，磁頭塗(tu)敷(fu)，以及(ji)提(ti)高(gao)金屬絲的(de)連(lian)接(jie)強度(du)，光(guang)清(qing)洗(xi)後(hou)效果更(geng)好(hao)。

7、石英(ying)晶(jing)體振蕩器生產中，除(chu)去(qu)晶(jing)體檢(jian)測後(hou)塗(tu)層上(shang)的墨(mo)跡，晶(jing)體在銀(yin)蒸(zheng)發沈(chen)積(ji)前(qian)，進(jin)行(xing)光清(qing)洗(xi)可以提(ti)高(gao)鍍膜質量(liang)和產品(pin)性(xing)能(neng)。

8、在(zai)IC卡表面插(cha)裝ROM前(qian)，經過(guo)光(guang)清洗可提(ti)高(gao)產品(pin)質(zhi)量(liang)。

9、彩(cai)色(se)濾光片(pian)生(sheng)產中，光(guang)清洗後(hou)能(neng)洗凈(jing)表(biao)面的(de)有機汙染(ran)物。

10、敷(fu)銅(tong)箔(bo)層(ceng)壓(ya)板(ban)生產中，經(jing)過(guo)光(guang)照改質，不僅(jin)表面潔凈而且(qie)表(biao)面形(xing)成十分均勻(yun)的保(bao)護氧(yang)化層，產品(pin)質(zhi)量(liang)顯(xian)著提(ti)高(gao)。

11、光(guang)學玻璃經(jing)過(guo)紫外光清(qing)洗後(hou)，鍍膜質量(liang)更好(hao)。

12、樹脂(zhi)透(tou)鏡光(guang)照後(hou)，能(neng)加強與防反(fan)射(she)板的粘貼(tie)性(xing)。

13、對清除石蠟(la)、松(song)香(xiang)、油(you)脂(zhi)、人體體油、殘(can)余(yu)的(de)光刻膠(jiao)、環(huan)氧(yang)樹脂、焊(han)劑，以及(ji)帶有氧(yang)化膜的(de)金屬表面處(chu)理，去(qu)除(chu)導電聚酰亞(ya)胺粘合劑上(shang)的有機汙染(ran)物，光清(qing)洗(xi)是(shi)十分有效的(de)方(fang)法(fa)。