三(san)水位(wei)聯動水位(wei)控制器型(xing)號(hao)HBZ301

用在(zai)水井(jing)及(ji)水池聯動的(de)控制

應(ying)用場(chang)合(he)：個(ge)水井(jing)，個(ge)水池，個水泵(beng)。水井(jing)裏放個(ge)水位(wei)開關(guan)來判(pan)斷(duan)水井(jing)是否(fou)有水，水池上放(fang)兩個水位(wei)開關(guan)，分(fen)別(bie)作為水位(wei)及(ji)低水位(wei)，總(zong)共三(san)個電(dian)子(zi)式(shi)水位(wei)開關(guan)由塊(kuai)控制板來行邏(luo)輯控制

作邏輯：當水池缺水和水井(jing)有水這(zhe)兩個條件(jian)同(tong)時(shi)滿(man)足的(de)情況下，水泵(beng)就啟動，此時(shi)水泵(beng)把水井(jing)中(zhong)的(de)水抽往(wang)水池，直(zhi)到(dao)抽到(dao)水池滿(man)水或(huo)水井(jing)缺(que)水，水泵(beng)就停(ting)止作，由於(yu)水井(jing)只(zhi)有個(ge)水位(wei)開關(guan)，設置(zhi)有0-30分(fen)鐘的(de)可調(tiao)延時，來防(fang)止水井(jing)有水即(ji)抽，無水即(ji)停(ting)的(de)頻繁(fan)啟動現象。即(ji)當水井(jing)的(de)水位(wei)開關(guan)判(pan)斷(duan)有水時(shi)，所(suo)連接的(de)水泵(beng)不會馬(ma)上啟動，而是延遲(chi)段時間(jian)（該時間(jian)可由客(ke)戶(hu)自(zi)行改變(bian)）後(hou)才(cai)啟動。本(ben)控制器帶有手(shou)動強制啟泵(beng)能。也可選配加接交(jiao)接(jie)觸(chu)器。

三(san)水位(wei)聯動水位(wei)控制器型(xing)號(hao)HBZ301

(標配鐵盒裝(zhuang)，鐵(tie)盒尺(chi)寸：23*16*26cm）

輸出端默認是開關(guan)量(liang)輸出，若要(yao)220V電壓(ya)輸(shu)出需(xu)要(yao)訂購(gou)時別說明(ming)。本(ben)套(tao)產(chan)品(pin)不包括(kuo)報(bao)警器(qi)、水泵(beng)、電(dian)磁閥等(deng)外(wai)設(she)。

2.全自(zi)動金(jin)剛(gang)石線切割機  金(jin)剛(gang)石線切割機  型(xing)號(hao)：HAD-1202

主要(yao)特點：

1、可用於(yu)切(qie)割不同硬(ying)度晶體(ti)、陶瓷、玻(bo)璃(li)、PCB板、頁巖(yan)樣品(pin)、巖石樣品(pin)、隕石樣品(pin)、海洋結核樣品(pin)、耐(nai)火材料、復合(he)材(cai)料(liao)等(deng)脆(cui)性(xing)材(cai)料(liao)。最大切割尺(chi)寸為12英(ying)寸

2、工作(zuo)臺(tai)可(ke)程序控制，進行360度(du)調(tiao)整。

3、主電機帶動金(jin)剛(gang)石切割線，能夠上下定(ding)速(su)移(yi)動，而樣品(pin)固定(ding)在工(gong)作臺上，可(ke)以保(bao)持(chi)被切物(wu)的(de)穩(wen)定。

4、可以(yi)為客(ke)戶設(she)計(ji)各種不同的(de)工裝(zhuang)卡(ka)具，適(shi)用於(yu)不同形(xing)狀的(de)物體(ti)。

5、采用鋁(lv)框(kuang)架(jia)結構，美(mei)觀(guan)穩(wen)定。

6、采用進(jin)口氣動元件(jian)，使張緊力穩(wen)定可(ke)靠(kao)。

7、PLC程序控制，操作(zuo)簡(jian)單(dan)。

8、采用大(da)屏幕(mu)觸(chu)摸屏，視(shi)覺美(mei)觀大方，手感良好(hao)。

技術參(can)數(shu)：

1、切割線運絲速(su)度(du)：0-5m/s範(fan)圍(wei)內可(ke)調(tiao)

2、切割線總長度：≤150m

3、切割絲直(zhi)徑(jing)：≤0.45

4、Z工作(zuo)臺(tai)最(zui)大行(xing)程：≤300mm

5、Z、Y軸進給(gei)的(de)示值精(jing)度(du)：0.01mm

6、Y軸的(de)最大(da)行(xing)程：≤300mm

7、Ø200水平(ping)回(hui)轉(zhuan)工作(zuo)臺(tai)的(de)轉(zhuan)角(jiao)分(fen)辨(bian)率：0.01°（即0.6′）

8、Ø200回(hui)轉(zhuan)工作(zuo)臺(tai)的(de)重復(fu)定(ding)位精(jing)度(du)：＜0.032°（即1.92′）

9、切割最(zui)大工件(jian)直(zhi)徑(jing)和長(chang)度(du)：Ø300mm×300mm   

3. 塗(tu)層(ceng)測(ce)厚(hou)儀/磁性塗(tu)層(ceng)測(ce)厚(hou)儀/壹(yi)體(ti)鐵基(ji)/磁性膜厚(hou)計(ji)

型(xing)號(hao)：HAD-GT810F

塗(tu)層(ceng)測(ce)厚(hou)儀是具有廣(guang)泛(fan)使用範(fan)圍(wei)的(de)磁性儀器。其(qi)技術參(can)數(shu)符(fu)合(he)國(guo)家標準。

本(ben)儀器是磁性便(bian)攜式(shi)覆(fu)層(ceng)測(ce)厚(hou)儀，它能(neng)快速(su)、無損傷(shang)、精(jing)密(mi)地(di)進(jin)行(xing)塗(tu)、鍍(du)層(ceng)厚(hou)度的(de)測量(liang)。既(ji)可用於(yu)實(shi)驗(yan)室(shi)，也可用於(yu)工(gong)程現場(chang)。本(ben)儀器能(neng)廣泛(fan)地(di)應(ying)用在(zai)制(zhi)造(zao)業、金(jin)屬(shu)加工業、化(hua)工(gong)業(ye)、商檢(jian)等(deng)檢(jian)測(ce)領(ling)域。是材料(liao)保(bao)護專業(ye)的(de)儀器。
Fe質探(tan)針可檢(jian)測(ce)所(suo)有非(fei)磁性塗(tu)層(ceng)厚(hou)度，例如(ru)塗(tu)在(zai)鋼(gang)、鐵上(shang)的(de)漆、粉末(mo)塗(tu)層(ceng)、塑(su)料(liao)、瓷、鉻(ge)、銅、鋅等(deng)。
功(gong)能(neng)：

采用了(le)磁感應(ying)測厚(hou)方法(fa)，即(ji)可(ke)測量(liang)磁性金(jin)屬(shu)基體(ti)上非(fei)磁性覆(fu)蓋(gai)層(ceng)的(de)厚(hou)度；
可采(cai)用兩種方法(fa)對(dui)儀器進(jin)行校準,並可(ke)用基(ji)本(ben)校準法對(dui)測(ce)頭(tou)的(de)系(xi)統誤差(cha)進(jin)行修(xiu)正；
操作(zuo)過程有蜂(feng)鳴聲(sheng)提示；

電池電壓(ya)指(zhi)示：低電壓(ya)提示

自(zi)動關機
測量(liang)方法：F 磁感應(ying)
技術參(can)數(shu)
測量(liang)範圍：0~1250um (標準量(liang)程) (其他(ta)量(liang)程可訂(ding)制(zhi))

分(fen)辨(bian)率：0.1/1

最小(xiao)曲率(lv)半(ban)徑(jing): 凸 5mm/ 凹 5mm

最小(xiao)測(ce)量(liang)面積(ji)：10x10mm

最薄基(ji)底(di)：0.4mm

使用環(huan)境：溫(wen)度(du)：0-40℃ 濕度(du)：10-85%RH

準確(que)度：±(1.5+3%h)或±2um

公制/英制(zhi)：可(ke)轉(zhuan)換

電源(yuan)：2節(jie)5號(hao)電(dian)池

重量(liang)：99g（含電(dian)池）

附(fu)件(jian)：

標準片4片： 50um 、100um、 250um 、500um（選配：14um、25um）
基體(ti)1塊（鐵(tie)基(ji)體(ti)）

說明(ming)書1份

保(bao)修(xiu)卡(ka)1張

4.低電阻(zu)測(ce)試儀/直(zhi)流低電阻(zu)測(ce)試儀/微歐(ou)計(ji)/歐(ou)姆計(ji)/毫歐(ou)表(biao) 型(xing)號(hao):HAD-2512A

5.分(fen)液(ye)漏(lou)鬥(dou)振(zhen)蕩萃取(qu)器/分(fen)液(ye)漏(lou)鬥(dou)振(zhen)蕩器(qi) 型(xing)號(hao):HAD-FYC

HAD-FYC系(xi)列分(fen)液(ye)漏(lou)鬥(dou)振(zhen)蕩萃取(qu)器是壹(yi)種應(ying)用於(yu)化(hua)學(xue)實(shi)驗(yan)室(shi)中(zhong)的(de)液(ye)液(ye)萃取(qu)裝置(zhi)。目(mu)前(qian)，在(zai)國(guo)內實(shi)驗(yan)室(shi)中(zhong)，常用分(fen)液(ye)漏(lou)頭(tou)手(shou)搖(yao)萃取(qu)。這種方法(fa)既(ji)笨重(zhong)，萃取(qu)效(xiao)率又(you)低，人(ren)工勞(lao)動強度還大(da)，而且萃取(qu)時所(suo)用有機溶(rong)劑還會(hui)給(gei)實(shi)驗(yan)人(ren)員帶來身(shen)體(ti)上的(de)傷(shang)害(hai)。

為此我(wo)單位(wei)研制開發了HAD-FYC系(xi)列分(fen)液(ye)漏(lou)鬥(dou)振(zhen)蕩萃取(qu)器，此種分(fen)液(ye)漏(lou)鬥(dou)振(zhen)蕩器(qi)是邊(bian)旋轉(zhuan)邊(bian)振蕩，振(zhen)蕩頻(pin)數(shu)可(ke)達300次(ci)以上(shang)，萃取(qu)相當充分(fen)。

本(ben)產(chan)品(pin)為HAD-FYC系(xi)列分(fen)液(ye)漏(lou)鬥(dou)振(zhen)蕩萃取(qu)器全自(zi)動工作方式(shi)．由萃取(qu)瓶、可調(tiao)頻電(dian)機及(ji)時(shi)控系(xi)統三(san)大部(bu)分(fen)組(zu)成。其工(gong)作原理(li)通過可(ke)調(tiao)頻(pin)電機讓萃取(qu)劑在萃取(qu)瓶中(zhong)從上到(dao)下，再從下到(dao)上來回(hui)旋轉(zhuan)，使萃取(qu)劑與水樣充分(fen)結(jie)合(he)並(bing)激(ji)烈(lie)碰(peng)撞(zhuang)，邊(bian)旋轉(zhuan)邊(bian)振蕩，以(yi)達到(dao)萃取(qu)的(de)目(mu)的(de)，同時(shi)整個萃取(qu)在封(feng)閉(bi)的(de)萃取(qu)瓶中(zhong)完(wan)成，解決(jue)試劑揮(hui)發問題，使萃取(qu)結果(guo)更(geng)加(jia)穩(wen)定可(ke)靠(kao)，萃取(qu)數(shu)據真(zhen)實(shi)可(ke)信(xin)。

HAD-FYC系(xi)列分(fen)液(ye)漏(lou)鬥(dou)振(zhen)蕩萃取(qu)器可(ke)廣泛(fan)應(ying)用於(yu)地(di)表(biao)水，自(zi)來水，工(gong)業(ye)廢(fei)水及(ji)生(sheng)活汙水的(de)萃取(qu)工作(zuo)。例如(ru)：水體(ti)中(zhong)的(de)油，揮(hui)發酚，陰離子(zi)等(deng)物(wu)質(zhi)的(de)萃取(qu)工作(zuo)。

HAD-FYC系(xi)列分(fen)液(ye)漏(lou)鬥(dou)振(zhen)蕩萃取(qu)器特點：
轉(zhuan)速(su)：每(mei)分(fen)鐘0-200轉(zhuan)，數(shu)顯(xian)可(ke)調(tiao)        旋轉(zhuan)模(mo)式(shi)：可(ke)正(zheng)轉(zhuan)也可反轉(zhuan)。
封(feng)閉(bi)式(shi)萃取(qu)，模(mo)擬(ni)人(ren)工手(shou)搖(yao)，360度(du)旋轉(zhuan)，使萃取(qu)結果(guo)更(geng)加(jia)真(zhen)實(shi)可(ke)靠(kao)。
萃取(qu)效(xiao)率大(da)於(yu)95％。與普通振(zhen)蕩器(qi)有本(ben)質(zhi)區別，使萃取(qu)數(shu)據更(geng)真(zhen)實(shi)可(ke)信(xin)。
萃取(qu)自(zi)動化程度高(gao)，萃取(qu)速(su)度(du)快(kuai)。2分(fen)鐘即(ji)可(ke)同時(shi)萃取(qu)多(duo)個(ge)樣品(pin)。
萃取(qu)時間(jian)：全數(shu)字定時(shi)，秒(miao)、分(fen)、小(xiao)時任(ren)選1s-99h99m。
符合(he)HJ 637-2012（代(dai)替GB/T16488-1996）標準，可以(yi)以(yi)180-200rpm的(de)轉(zhuan)速(su)旋轉(zhuan)，旋轉(zhuan)過程中(zhong)振蕩頻(pin)數(shu)可(ke)達300次(ci)。
可放(fang)置(zhi)單(dan)壹(yi)容量(liang)分(fen)液(ye)漏(lou)鬥(dou)2000ML*4個(ge)，1000ML*4個(ge)，1000ML*8個(ge)，500ML*4個(ge)，500ML*8個，250ML*12個(ge)，125ML*16個，以(yi)上是放置(zhi)單(dan)壹(yi)容量(liang)規格，還(hai)可在同(tong)壹(yi)臺設備上同時(shi)放置1000ML*4,500*4,250*6個(ge)。或500*4,250*6,125*8。

以上(shang)參(can)數(shu)資料(liao)與圖(tu)片相對(dui)應(ying)